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鉭靶

一、鉭靶簡介

1. 牌號:RO5200,RO5400

2. 純度:≥99.95%

3. 工藝:冷軋,酸洗,剪切而成

4. 技術(shù)條件:符合GB3269-83(鉭及鉭合金板材、帶材和箔材),

5.標(biāo)準(zhǔn):

GB/T3628-1995(鉭及鉭合金箔材),

ASTM B708-92(鉭和鉭合金中厚板、薄板、帶材和箔材)

 


二、鉭材應(yīng)用領(lǐng)域

1.        主要用于鍍膜工藝,以及在航空、航天工業(yè)、醫(yī)療器械等領(lǐng)域。

2.        可用來制造蒸發(fā)器皿等,

3.        電子管的電極、整流器、電解電容。

4.        醫(yī)療上用來制成薄片或細線,縫補破壞的組織。

5.        鉭被制造成了電容裝備到軍用設(shè)備中。

 

三、鉭靶牌號、狀態(tài)和規(guī)格見表1

牌號

供應(yīng)狀態(tài)

規(guī)格(mm)

品種

厚度

寬度

長度

Ta1

Ta2

R05200

R05400

R05255(Ta10W)

R05252(Ta2.5W)

Ta7.5W

硬狀態(tài)(Y)

0.0250.09

<150

>200

箔材

硬狀態(tài)(Y)

軟狀態(tài)(M)

0.10.5

50300

1002000

帶材

板材

>0.52.0

50500

501200

板材

>2.06.0

50500

501200

 厚度、寬度、長度及允許偏差見表2

2                                                    單位:mm

厚度

厚度允許偏差

寬度

寬度允許偏差

長度

長度允許偏差

Ⅰ級

Ⅱ級

0.0250.07

±0.005

±0.006

70150

±2.0

1000

>0.070.09

±0.006

±0.008

70150

±2.0

1000

0.10.20

±0.015

±0.02

50300

±2.0

1002000

±3.0

>0.20.30

±0.02

±0.03

50300

±2.0

1002000

±3.0

>0.300.50

±0.03

±0.04

50500

±2.0

1002000

±3.0

>0.500.80

±0.04

±0.06

50500

±2.0

501200

±3.0

>0.801.0

±0.06

±0.08

50500

±2.0

501200

±3.0

>1.01.5

±0.08

±0.10

50500

±3.0

501200

±4.0

>1.52.0

±0.12

±0.14

50500

±3.0

501200

±4.0

>2.03.0

±0.16

±0.18

50500

±5.0

501200

±5.0

>3.04.0

±0.18

±0.20

50500

±5.0

501200

±5.0

>4.06.0

±0.12

±0.24

50500

±5.0

501200

±5.0

>6.030.0

±0.24

±0.50

50500

±5

501200

±5.0


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